EBL2, de EUV belichtings- en analysefaciliteit

TNO houdt zich bezig met het ontwikkelen van de hoogste normen en instrumentatie bij vervuilingsbeheersing, met als doel zowel deeltjes- als moleculaire contaminatie te elimineren. TNO beschikt over de meest geavanceerde faciliteiten, inclusief ultraschone apparatuur voor  het testen van EUV-maskers, apparatuur voor inspectie en analyse voor zowel deeltjes- als moleculaire contaminatie en diverse andere inspectie- en reinigingsapparatuur. Wij zetten onze 20 jaar aan kennis en ervaring in bij het ontwikkelen van de nieuwste, meest innovatieve en betrouwbare oplossingen. TNO is koploper op het gebied van vervuilingsbeheersing, zowel bij de huidige immersie-lithografie-tools als bij de meest recente innovaties in EUV-lithografie.

De belangrijkste faciliteit voor EUV-ontwikkeling is de EUV Beam Line 2 (EBL2) (zie hieronder). Dit geïntegreerde vacuümsysteem bestaat uit een vacuümkamer voor het uitvoeren van EUV-belichtingen in een gecontroleerde omgeving en een XPS voor oppervlakteanalyse. Monsters kunnen hierin tussen de testomgeving en de XPS worden getransporteerd zonder het vacuüm te verstoren.

EBL2 in de cleanroom

De onderstaande tabel geeft een overzicht van de belangrijkste eigenschappen van EBL2. Het systeem accepteert uiteenlopende monstergroottes, inclusief standaard EUV-reticles met of zonder pellicles.

• Optisch vermogen >1 W in 2% BW bij 13,5 nm (“IB”) (10 W in OoB ((10-20 nm )) bij 3 kHz
• Intensiteit >1 W/mm2 IB in focus bij 3 kHz
• Dwarsdoorsnede optische focus 1 – 30 mm diameter (instelbare vermogensdichtheid)
• Bronfrequentie 1 Hz – 10 kHz (standaard 3 kHz)
• Monstergrootte Max. 152x152x20 mm (EUV-masker + pellicle mogelijk)
• Dosisbeheersing <20 %  bij uitgeschakelde terugkoppeling bron  
• Ononderbroken belichtingsduur >100 uur
• In-vacuüm analysetechnieken Ellipsometrie en XPS

De hieronder afgebeelde EBL2 bevat een vacuümomgeving waarin monsters voor langere tijd in een gecontroleerde, representatieve omgeving kunnen worden blootgesteld aan EUV-straling. Voor de realtime monitoring van de voortgang van de blootstelling is een in-situ ellipsometer met beeldvorming beschikbaar.

EBL2 van andere kant

EBL2 beschikt ook over een XPS-systeem dat EUV-maskers en -pellicles kan analyseren, inclusief functionaliteit om een ‘defectenkaart’ te produceren. De geautomatiseerde monsterbehandeling accepteert SEMI-standaard dual pods en handhaaft NXE-compatibiliteit voor deeltjescontaminatie op de achterkant. Het systeem is zodoende geschikt voor het belichten van monsters tot een zeer hoge doses EUV en om de reticles vervolgens terug te kunnen sturen voor gebruik in een wafer fab.